Исследование и разработка процессов плазменного травления функциональных слоев СБИС с использованием источников высокоплотной плазмы Голишников Александр Анатольевич

Данный автореферат диссертации должен поступить в библиотеки в ближайшее время
Уведомить о поступлении

Диссертация, - 480 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Автореферат - 240 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Голишников Александр Анатольевич. Исследование и разработка процессов плазменного травления функциональных слоев СБИС с использованием источников высокоплотной плазмы : диссертация ... кандидата технических наук : 05.27.01.- Москва, 2002.- 167 с.: ил. РГБ ОД, 61 02-5/2667-4

Похожие диссертации на Исследование и разработка процессов плазменного травления функциональных слоев СБИС с использованием источников высокоплотной плазмы

Исследование и разработка процессов формирования проводящих пленок из ПГС, включающей галогениды металлов и водород, при пониженном давлении в реакционном объемеНечипоренко, Александр Петрович

Исследование и разработка процессов формирования непроникающих омических контактов на основе силицида титана к мелкозалегающим Р-П-переходам кремниевых ИСРайнова, Мария Юрьевна

Исследование и разработка процесса формирования пленок поликристаллического кремния с полусферическими зернами для конденсатора с повышенной емкостьюНовак Андрей Викторович

Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/TiСмирнов Владимир Александрович

Разработка и исследование фотонно-стимулированных технологических процессов получения оксидных пленок кремния на SiC Кочеров Александр Николаевич

Исследование латеральной однородности плазмы в реакторах микроэлектроники методами двухракурсной эмиссионной томографииФадеев Алексей Владимирович

Исследование кинетики и механизмов взаимодействия газоразрядной фторсодержащей плазмы с поверхностью LiNbO3Гуляев, Вячеслав Валентинович

Теоретическое исследование глубокого анизотропного травления кремниевых структур в низкотемпературной плазмеЛукичев, Владимир Федорович

Исследования физико-химических процессов генерации и гибели частиц в плазме ВЧ разряда в планарном реакторе плазмохимического травления промышленного типаПашков, Владимир Юрьевич

Исследование процессов травления диоксида кремния, кремния, полимерных пленок в химически активной плотной плазме ВЧ индукционного разряда низкого давленияИзюмов Михаил Олегович