Электронная библиотека диссертаций и авторефератов России
dslib.net
Библиотека диссертаций
Навигация
Каталог диссертаций России
Англоязычные диссертации
Диссертации бесплатно
Предстоящие защиты
Рецензии на автореферат
Отчисления авторам
Мой кабинет
Заказы: забрать, оплатить
Мой личный счет
Мой профиль
Мой авторский профиль
Подписки на рассылки



расширенный поиск

Менханизмы формирования зарядового состояния атомных частиц при вторичной ионной эмиссии Клушин, Дмитрий Владимирович

Данная диссертационная работа должна поступить в библиотеки в ближайшее время
Уведомить о поступлении

Диссертация, - 480 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Автореферат - бесплатно, доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Клушин, Дмитрий Владимирович. Менханизмы формирования зарядового состояния атомных частиц при вторичной ионной эмиссии : автореферат дис. ... кандидата физико-математических наук : 01.04.04.- Москва, 1996.- 17 с.: ил.

Введение к работе

актуальность темы. Электронный обмен между атомной частицей и поверхностью твердого тела является одним из фундаментальных аспектов взаимодействия "атом-поверхность". Этот процесс лежит в основе многих физических явлений, происходящих на поверхности, имеющих помимо чисто научного большое прикладное значение. Благодаря этому в последние годы наблюдается повышенный интерес к всестороннему рассмотрении проблемы перезарядки.

Несмотря на большое число работ в этой области исследований, до сих пор нет общепризнанной точки зрения на физические процессы формирования зарядового состояния атомной частицы при ее взаимодействии с поверхностью. Современное понимание механизмов формирования вторичных ионов при ионном облучении различных материалов является далеко еще неполным: ряд закономерностей вторичной ионной эмиссии (ВИЭ) остается необьясненным, различные модели ВИЭ часто противоречат друг другу. Следует отметить, что даже для самой простой ситуации (эмиссия вторичных ионов в основном состоянии с чистой поверхности обыкновенных металлов) проблема создания единого подхода, описывающего различные аспекты ВИЭ, до сих пор остается неразрешенной. Адекватное описание процесса ВИЭ актуально и для практических приложений, прежде всего, потому что вторичная ионная эмиссия лежит в основе одного из самых чувствительных методов анализа поверхности - вторичной ионной масс-спектрометрии.

Большинство вторичных ионов составляют однократно заряженные положительные или отрицательные ионы, хотя их доля в общем потоке вторичных атомных частиц весьма незначительна. Для чистой поверхности металла или полупроводника доля частиц, покидающих поверхность в виде однократно заряженных положительных ионов, составляет io~s - 10~3, Экспериментальные трудности при исследовании ВИЭ связаны с проведением экспериментов в сверхвысоком вакууме с хорошо контролируемыми условиями. Наиболее важным, но неясным является вопрос о локальном состоянии поверхности в области эмиссии вторичного иона. Прямые экспериментальные исследования области распыления в течение достаточно короткого временного интервала эмиссии (порядка ю-13 с) в настоящее время практически неосуществимы. Поэтому

для описания ВИЭ прежде всего нужны определенные приближения, касающиеся электронных свойств возмущенной области твердого тела, из которой происходит эмиссия. В связи с этим модели перезарядки между распыленной частицей и поверхностью твердого тела развиваются по мере развития таких приближений.

Современные модельные представления о формировании вторичных ионов в основном состоянии связаны с туннелированием электронов между распыленным атомом и поверхностью твердого тела. Кроме того, в последнее время активно исследуется роль возбуждений электронной подсистемы распыляемой области твердого тела в формировании зарядового состояния эмитируемой частицы. Представляемая работа является дальнейшим развитием этих вопросов в теории ВИЭ.

цель работы состояла в теоретическом исследовании физических процессов, ответственных за формирование однократно заряженных вторичных ионов в основном состоянии при эмиссии с чистой поверхности твердого тела.

научная новизна. В работе впервые получены следующие научные результаты:

Получено аналитическое решение задачи перезарядки между электронным уровнем атомной частицы и зоной электронных состояний твердого тела в рамках нестационарной модели Андерсона-Ньюнса с равновесньши начальными условиями для суммарной системы "гибридизованный атом + поверхность". Полученное решение исследовано для двух частных случаев: слабого и сильного изменения положения атомного уровня в зависимости от расстояния до поверхности. Проанализированы основные механизмы, ответственные за формирование вторичных ионов.

Исследована динамика локальной электронной температуры в области каскада столкновений при вторичной ионной эмиссии. Изучено влияние остывания электронной подсистемы в каскадной области на вероятность ионизации и формирование энергетических распределений вторичных ионов.

- В рамках предложенной теории объяснены зависимость
вероятности ионизации распыленного атома металла от скорости
отлета от поверхности и сдвиг положения максимума
энергетического распределения вторичных ионов при увеличении

угла эмиссии. Продемонстрировано количественное соответствие теоретических и экспериментальных результатов, что не удавалось ранее при использовании других моделей ВИЗ.

- Предложен способ определения степени локального разогрева
электронной подсистемы твердого тела в области взаимодействия с
падающим на поверхность пучком атомных частиц.

Полученное в диссертации решение задачи перезарядки в случае отлета атомной частицы от поверхности твердого тела дало возможность объяснить в рамках единого подхода совокупность экспериментальных закономерностей при вторичной ионной эмиссии.

Полученные результаты можно рассматривать как еще один шаг на пути создания количественного метода вторично-ионной масс спектрометрии (БИМС), которая на данный момент является самым чувствительным методом анализа состава поверхности.

Исследование роли локального электронного разогрева в формировании вторичных ионов может быть использовано при экспериментальном изучении свойств электронной подсистемы в области распыления.

Квантовомеханический подход к описанию вторичной ионной эмиссии с поверхности металлов, выявляющий два основных механизма формирования вторичных ионов: туннельный и механизм термализации, с возможностью преобладания одного из них.

Объяснение совокупности экспериментальных закономерностей ВИЗ (абсолютное значение вероятности ионизации, поведение вероятности ионизации от скорости эмитируемой частицы, сдвиг энергетических распределений вторичных ионов при изменениии угла эмиссии) в рамках предложенного модельного подхода.

Анализ влияния динамики локальной электронной температуры в области каскада столкновений в твердом теле на процесс образования вторичных ионов.

Способ определения степени локального разогрева электронной подсистемы твердого тела в области распыления.

апробация работы. Результаты исследований, которые вошли в диссертацию, были доложены на xv и xvi Международных

конференциях по атомным столкновениям с твердым телом (Лондон, Канада, 1993; Линз, Австрия, 1995), на х Международном симпозиуме по неупругому взаимодействию ионов с поверхностью (Вайоминг, США, 1994), на хп Конференции по взаимодействию атомных частиц с твердым телом (Звенигород, Россия, 1995).

публикации. Теме диссертации посвящено 16 публикаций, список которых приведен в конце автореферата.

структура и объем диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав и заключения. Работа содержит 134 страницы, включая 16 рисунков и список литературы из 173 наименований.

Похожие диссертации на Менханизмы формирования зарядового состояния атомных частиц при вторичной ионной эмиссии